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光敏印章的制作原理

文章出处:admin 人气:发表时间:2018-05-14 09:14

  光敏印章是20世纪90年代初有日本发明的,是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制作成的印章。

光敏印章
  
 专用的光敏印章材料(光敏平面橡胶)是一种超微泡材料,其表面的为空孔径非常小,平均孔径小于30um。本身具有储油渗油及光闪烁特性。光敏材料在收到强光照射的时候,可以吸收光能并转换成热能。曝光时,光敏材料表面见光部分瞬间吸收大量的光能后,温度迅速上升并达到熔点。闪光结束后,表面溶体的温度迅速降低,形成一定厚度和强度的薄膜,这层薄膜同时起到封孔闭空的作用,并隔绝印油的渗透。
  利用光敏材料的特征,用激光打印机将章稿打印在具有透光特征的硫酸纸或激光胶片上,将其覆盖在光敏材料上后放在曝光机内曝光,由于章稿图文本身具有黑度不能曝光,因而长高图文覆盖的光敏材料没有受到光照仍然可以储油渗油,而其他部分则由于受到光照发生凝固不能渗油,从而实现了印章的制作。由于激光打印机的打印精度在1200DPI以上,加之光敏材料本身的超微孔结构,因此,光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章(如国产原子印章、渗透印)或其他技术方式制作的印章的精度高出许多,是前制作精度最高的一种印章。
光敏印章构成
  光敏印章的印面有顶面和底面构成。顶面有细小致密的开放微孔构成,平均孔径小鱼30Um;底面成黑色,平滑平整,其表面一定厚度和强度的薄膜构成。这层薄膜起到封孔闭孔、隔绝印油渗透的作用,与顶面保持0.1~0.3mm的水平深度。
  光敏印章是根据设计图案制作而成,印章图案有图文和空白区构成。图文区制成印章顶面,空白区制成印章底面。顶面微孔中的印油在盖印压力作用下从微孔中深处形成印迹,但制作印章过程中出现在空白的细小脏点,可导致该部位为空不能封闭,成凸面开孔,形成瑕疵点印迹。
光敏印章特征

此文关键字:光敏印章制作原理

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